2138cn太阳集团(古天乐)官方网站-Make It Possible

新闻&资源

时刻与您分享我们的一点一滴

企业新闻行业资讯产品知识资料下载

产品知识

与您分享产品知识

单极型功率二极管和双极型功率二极管差异？

单极型功率二极管和双极型功率二极管之间的主要差异在于其不同的结构和工作原理主要应用方面，单极型功率二极管通常用于开关电源、逆变器等高频应用中，而双极型功率二极管则主要用于电力电子应用中的整流、驱动和保护电路等。在器件的优值系数方面，单极型功率二极管通常具有较低的开通电压降和较快的开关速度，适用于高频应用。双极型功率二极管则往往具有较高的反向耐压和较大的电流承受能力，适用于大功率应用

太阳能逆变器的快恢复二极管的用途？使用注意事项？

快恢复二极管（Fast Recovery Diode，简称FRD）在太阳能逆变器中的主要作用是用于电流的反向导通和防止电压反射。快恢复二极管的使用注意事项如下：1. 逆变器设计时需要选择合适的快恢复二极管，确保其额定电流和电压等参数符合逆变器的工作要求。2. 确保快恢复二极管正常的散热条件，在高温环境下需要进行合理的散热措施，以防止过热导致失效。3.&nbs

功率MOSFET在光伏优化器的失效模式？

MOSFET在光伏优化器中可能出现的失效模式包括以下几种：1. 功率MOSFET过热：如果功率MOSFET长时间工作在高负载下，可能会导致器件温度过高，超过其额定温度范围，从而失效。2. 粗糙开关：当功率MOSFET开关频率较高时，可能会出现开关过程中由于器件内部电荷积累的不足而导致的电流间断或闪烁现象，这称为粗糙开关。长时间的粗糙开关操作可能导致MOSFET失效。3.&nbs

什么是碳化硅的离子注入？选择性掺杂技术又是讲什么？

碳化硅的离子注入是一种技术，用于在碳化硅材料中引入特定的杂质原子。离子注入通常通过高能离子束将所需的掺杂物注入到碳化硅晶体中。离子注入过程包括以下步骤：1. 选择要注入的目标杂质原子，通常是硼（B）、氮（N）或磷（P）等。2. 准备碳化硅衬底和膜层，以便承载和保护离子注入过程。3. 使用离子注入机将高能离子束引入碳化硅材料。离子束会穿过膜层并注入到碳化硅晶体中。4.&

平面MOSFET和超结MOSFET 两者的差别？电路设计使用时注意哪些问题？

平面MOSFET和超结MOSFET是两种不同的MOSFET结构，它们有一些差异。1. 结构差异：- 平面MOSFET：平面MOSFET是最常见的MOSFET结构，由三个主要区域组成：栅极、通道和漏极。栅极和漏极之间有一个绝缘层，用于控制通道的导电性。- 超结MOSFET：超结MOSFET是一种特殊设计的MOSFET，具有额外的特殊结构，即超结。超结结构通常是通过薄膜沉

碳化硅的 Mosfet，如何更好解决静电问题？

碳化硅的MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）相比传统硅MOSFET具有更高的击穿电场强度和较低的漏电流，因此在一定程度上能够更好地抵御静电问题。然而，为了进一步解决静电问题，以下是一些常见的方法：1. 设计合适的保护电路：在MOSFET的输入和输出端进行静电保护设计，例如使用TVS二极管或静

MOSFET的电流与电压的简要关系？

在MOSFET（金属-氧化物-半导体场效应晶体管）中，电流和电压之间存在一定的关系。MOSFET的电流与栅极电压和漏极电压相关，可以通过以下几个关键参数来描述：1. 阈值电压（Threshold Voltage，Vth）：当栅极电压大于等于阈值电压时，MOSFET开始导通。在Vth之下，MOSFET处于截止状态，导通电流非常小。2. 开启电压（Turn-On

碳化硅的特性和发展历史？

碳化硅（Silicon Carbide，简称SiC）是一种广泛应用于半导体、电力电子器件和耐高温材料的材料。以下是碳化硅的特性和发展历史的简要概述：特性：1. 高温特性：碳化硅可以在高温下运行，具有更好的热传导性和高温稳定性，可达到1500°C以上的工作温度。2. 高电子迁移率：碳化硅具有较高的电子迁移率，可以实现高速、高功率的电子器件设计。3. 高

硅半导体PN结是什么？

PN通常指的是正负“正极-负极”结构，即正极（P区）和负极（N区）之间的结构

总计 81 1 2 3 456 7 8 9